Target sputtering titanium dengan kemurnian tinggi

Saat Anda membutuhkan film tipis-berperforma tinggi dan stabil untuk semikonduktor, optik, atau pelapis industri, kualitas target sputtering Anda menentukan segalanya.

Target sputtering Ti adalah bahan sumber utama yang digunakan dalam magnetron sputtering (PVD) untuk menyimpan film berbasis titanium murni, TiN, TiAlN, dan titanium fungsional-pada substrat Anda.

SasaranmuSpesifikasi

Barang	Spesifikasi
Bahan	Titanium murni komersial (Grade 1, Grade 2) atau paduan titanium
Kemurnian	3N5 (99,95%), 4N (99,99%), 4N5 (99,995%), 5N (99,999%) untuk semikonduktor
Kepadatan	Lebih besar atau sama dengan 4,51 g/cm³
Kotoran Terkendali	Fe, Cr, Ni, O, N, C, H (dikendalikan per tingkat kemurnian)
Bentuk	Profil khusus berbentuk bulat, persegi panjang, putar (silinder).
Ukuran	Ø50 – Ø300 mm, tebal 3–10 mm, panjang: 4000 mm
Opsi Ikatan	Pelat pendukung tembaga atau aluminium, penjepit mekanis, monolitik
Permukaan Selesai	Dimesin, disemprot pasir, dipoles,-dibersihkan dengan asam, dikemas vakum

Jenis Target Sputtering Ti yang Dapat Anda Pilih

TIDAK.	Bahan	Komposisi	Fitur Utama	Aplikasi Khas
1	CP Titanium (Gr1 / Gr2)	Lebih besar dari atau sama dengan 99,5% Ti	Kotoran rendah, sputtering stabil	Elektronik, pelapis dekoratif
2	Titanium Kemurnian Tinggi (4N / 5N)	Lebih besar dari atau sama dengan 99,99% Ti	Film yang sangat-bersih	Semikonduktor, pelapis optik
3	Sasaran Ti-6Al-4V	Ti-6Al-4V	Deposisi film paduan, kekuatan tinggi	Pelapis fungsional dan struktural
4	TiAl / TiAl₃ Sasaran	30–50% Al	Menghasilkan lapisan TiAlN yang super-keras	Alat pemotong, cetakan
5	Target Keramik Timah	Ti + N	Menyetorkan-film TiN berwarna emas	Ketahanan aus, pelapis dekoratif
6	Sasaran TiSi₂	Ti:Si ≈ 1:2	Film silisida dengan resistivitas rendah	Kontak dan gerbang semikonduktor

Bagaimana Target Titanium Anda Diproduksi

Pencairan Vakum

Menghilangkan kotoran gas dan logam

Pengepresan Isostatik Panas (PANGGUL)

Menghilangkan porositas internal dan meningkatkan kepadatan

Pemesinan Presisi CNC

Menjamin keakuratan dan kerataan dimensi

Sangat-Kemasan Sangat Bersih

Penyegelan vakum atau nitrogen mencegah oksidasi dan kontaminasi

Hal ini memastikan Anda mendapatkan performa-kepadatan tinggi,-partikel rendah, dan sputtering stabil setiap saat.

Yang Harus Anda Tentukan Saat Memesan

Untuk mendapatkan target tepat yang Anda butuhkan, cukup berikan:

Bahan & kelas (Ti 99,99%, Ti-6Al-4V, TiAl, dll.)
Bentuk (bulat, persegi panjang, putar, custom)
Ukuran & toleransi (diameter × tebal atau panjang × lebar × tebal)
Batas kemurnian dan pengotor yang disyaratkan
Pembersihan & pengemasan permukaan
Jumlah dan target tanggal pengiriman
Model dan aplikasi sistem sputtering Anda

Pertanyaan Umum

1. Berapa waktu pengiriman untuk target sputtering?

Ukuran standar: Dikirim dalam waktu 2 minggu

Target khusus: 2–4 minggu, bergantung pada ukuran, kemurnian, dan metode pengikatan

2. Bisakah Anda Menyesuaikan Target Sputtering Titanium?

Ya. Anda dapat sepenuhnya menyesuaikan target Anda, termasuk:

Dimensi dan ketebalan
Komposisi kemurnian dan paduan
Permukaan akhir dan tingkat pembersihan
Pelat pendukung atau metode pemasangan

3. Dimana Target Titanium Anda Digunakan

Semikonduktor: lapisan konduktif, film kontak IC
Pelapis optik: film anti-pantulan dan dekoratif
Pelapis PVD industri: TiN, TiAlN,-lapisan tahan aus
Otomotif, ruang angkasa & energi: pelapis fungsional{0}}berperforma tinggi

Dapatkan Target Sputtering Titanium Anda dari Produsen Tepercaya

Apakah Anda membutuhkannyatarget titanium standaratautarget kemurnian tinggi-yang sepenuhnya disesuaikan, Baoji Zecheng Metal Materials Co., Ltd. siap mendukung proyek pelapisan Anda dengan respon cepat, kualitas stabil, dan harga kompetitif.

Kirimkan spesifikasi target Anda kepada kami hari ini, dan Anda akan menerima akutipan teknis dan waktu tunggu dalam 24 jam.

📩 Hubungi kamisekarang untuk menyesuaikan target sputtering Anda dengan sistem PVD Anda.

Tag populer: target sputtering titanium, sputtering titanium Cina menargetkan produsen, pemasok, pabrik